Uutiset - Globaali johtava | Visionox esittelee maailman ensimmäisen massatuotantoratkaisun erittäin liikkuvalle ALD-täysoksiditeknologialle

Toukokuun 5. päivänä paikallista aikaa SID Academic Forumissa Visionoxin tekninen asiantuntija Chen Faxiang piti kutsutun avauspuheen ja ilmoitti, että Visionox on ottanut johtavan roolin massatuotantoratkaisun lanseerauksessa erittäin liikkuvalle ALD (Atomic Layer Deposition) -oksiditeknologialle.

ALD-prosessia käyttämällä Visionox on nostanut täysoksidi-TFT-näyttöjen yksittäisen portin liikkuvuuden yli 50 cm²/V·s:n ja onnistuneesti käynnistänyt 6,39-tuumaisen täysoksidipaneelin. Todentaminen osoittaa, että teknologia on alustavasti täyttänyt suorituskykyvaatimukset kalvonmuodostustarkkuuden, vakauden ja tasaisuuden suhteen, mikä on luonut uuden polun OLED-taustalevyille, joka tasapainottaa korkean suorituskyvyn, prosessitehokkuuden ja täyden koon skaalautuvuuden.

https://www.perfectdisplay.com/27-fast-ips-fhd-240hz-gaming-monitor-product/

https://www.perfectdisplay.com/27-ips-qhd-280hz-gaming-monitor-2-product/

https://www.perfectdisplay.com/27-ips-qhd-280hz-gaming-monitor-product/

Liikkuvuus Ylittää 50 cm²/V·s;

ALD avaa tehokkaan kattoratkaisun täysoksiditeknologialle

Nykyisessä OLED-taustalevyteknologiaekosysteemissä LTPS on pitkään hallinnut korkean suorituskyvyn rautateitä ylivoimaisen liikkuvuutensa ansiosta. Se on kuitenkin vahvasti riippuvainen Excimer Laser Annealing (ELA) -prosessista, johon liittyy monimutkaisia menetelmiä ja korkeita kustannuksia. Perinteiset oksidiratkaisut erottuvat edukseen laaja-alaisessa tasaisuudessa, mutta niiden heikko liikkuvuus rajoittaa niiden käyttöä korkean luokan premium-sovelluksissa. ALD-prosessin käyttöönotto tarjoaa uuden ratkaisun tähän pitkäaikaiseen alan haasteeseen.

ALD on pohjimmiltaan kerros kerrokselta tapahtuva kalvonkasvatustekniikka. Toisin kuin perinteinen PVD (Physical Vapor Deposition), jossa materiaalit kerrostetaan yhteen massakerrokseen, ALD kasvattaa ohutkalvoja yksi atomikerros kerrallaan erittäin tarkasti jokaisessa vaiheessa. Tämän seurauksena ALD:llä tuotetuilla ohutkalvoilla on tarkka paksuus, tasainen jakautuminen ja poikkeuksellinen stabiilius, mikä luo vankan materiaalipohjan korkean suorituskyvyn omaaville oksidi-TFT-transistoreille.

Näyttöjen taustalevyjen osalta kantoaallon liikkuvuus on TFT:n ohjauskyvyn ydinmittari, joka vaikuttaa suoraan pikselien vastenopeuteen, lataustehokkuuteen ja ohjauskykyyn korkean resoluution tilanteissa. ALD-prosessin avulla Visionox on saavuttanut yli 50 cm²/V·s:n yksiporttisen liikkuvuuden ja yli 80 cm²/V·s:n kaksiporttisen liikkuvuuden kokonaan oksidipohjaisilla TFT-näytöillä, mikä on maailman johtava taso. Tämä tarkoittaa, että kokonaan oksidipohjaisilla taustalevyillä on nyt riittävä ohjauskyky pienikokoisiin huippuluokan sovelluksiin. Visionox jatkaa tämän teknologian massatuotannon edistämistä seuraavassa vaiheessa.

Vielä tärkeämpää on, että tämä täysoksiditeknologia tarjoaa tehokkaan ajon ilman monimutkaisia ELA-prosesseja, mikä yksinkertaistaa olennaisesti valmistustyönkulkuja ja parantaa tuotantotehokkuutta.

Nopeampi päivitys, kapeammat reunukset, pienempi virrankulutus – suorituskyvyn parannus parantaa näyttökokemusta

Parempi liikkuvuus näkyy suoraan konkreettisina parannuksina käyttäjän näyttökokemuksessa.

Ensinnäkin korkeammat virkistystaajuudet. Käytännössä jokainen ruutu vaatii pikselien päivityksen erittäin lyhyessä ajassa. Vahvemmat laitteen ohjausominaisuudet mahdollistavat nopeamman pikselivasteen, mikä tukee helposti sulavia kuvia korkeilla virkistystaajuuksilla.

Toiseksi, kapeammat reunukset ja suurempi näytön ja rungon suhde. Vahvemman ohjaustehon ansiosta pikselipiirejä voidaan pienentää entisestään säilyttäen samalla näytön laatu, vieden vähemmän asettelutilaa ja mahdollistaen kompaktimman rakennesuunnittelun. Tämä ei ainoastaan optimoi päätelaitteiden teollista suunnittelua, vaan tukee myös näyttöjä, joilla on suurempi pikselitiheys.

Lisäksi teknologia mahdollistaa vakaan näytön alhaisilla virkistystaajuuksilla. Valmiustilassa ja staattisten kuvien tilanteissa, jotka vaativat pitkäkestoista kuvan säilymistä, päivitetty laitteen suorituskyky ylläpitää pikselitiloja paremmin, mikä vähentää näytön välkkymistä ja kirkkauden vaihteluita – saavuttaen vakaan kuvan ja vähentäen samalla virrankulutusta.

Ensimmäinen pienikokoinen paneeli käynnistyy — Täysoksiditeknologian sovellusrajojen laajentaminen

Suorituskyvyn läpimurtojen pohjalta Visionox on ensimmäistä kertaa onnistuneesti ottanut käyttöön pienikokoisen, kokonaan oksidipäällysteisen näytön. Aiemmin kokonaan oksidipäällysteisiä taustalevyjä käytettiin pääasiassa keskikokoisissa näytöissä, joita rajoitti alhainen liikkuvuus. Pienikokoisen paneelin onnistunut aktivointi osoittaa, että tämä tekninen ratkaisu on nyt valmis huippuluokan premium-sovelluksiin ja määrittelee uudelleen oksidipäällysteisten taustalevyjen sovellusten rajat.

Todentaminen vahvistaa, että ALD-ratkaisu on täyttänyt massatuotannon vaatimukset keskeisissä prosessi-indikaattoreissa: kiekkojen välinen kalvon paksuuden vaihtelu alle 2 % ja kalvon paksuuden tasaisuus 4 %:n sisällä. Tämä osoittaa erinomaista vakautta ja toistettavuutta massatuotannossa ja täyttää täysin paneelituotannon tasaisuusstandardit. Tällä hetkellä teknologia on todennettu 4,5G:n tuotantolinjalla ja skaalautuu uudempien sukupolvien tehtaisiin.

Visionox ylläpitää "kunnianhimoisen, rohkean ja innovaatiokykyisen" henkeä hyödyntäen lähes 30 vuoden teknologista kokemustaan ja teollistumiskokemustaan ratkaistakseen alan kehitystä rajoittavia keskeisiä pullonkauloja. Korkean liikkuvuuden omaava ALD-täysoksiditeknologia saavuttaa suorituskyvyn parannuksia yhden oksidijärjestelmän sisällä ilman monimutkaisia monimateriaaliyhdistelmiä. Korkean suorituskyvyn, korkean prosessitehokkuuden ja täyden koon skaalautuvuuden ansiosta se on valmiina tulemaan keskeiseksi tekniseksi reitiksi tulevaisuuden OLED-kehitykselle ja tarjoamaan suurempaa arvoa näyttöteknologian kilpailun uudella kierroksella.

Julkaisun aika: 8.5.2026