Le 5 mai, heure locale, lors du Forum académique SID, Chen Faxiang, expert technique chez Visionox, a prononcé un discours d'ouverture sur invitation et a annoncé que Visionox avait pris l'initiative de lancer une solution de production de masse pour la technologie tout oxyde ALD (dépôt de couches atomiques) à haute mobilité.

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Grâce à l'adoption du procédé ALD, Visionox a porté la mobilité des transistors TFT tout oxyde à plus de 50 cm²/V·s et a réussi à alimenter un panneau tout oxyde de 6,39 pouces. Les tests montrent que cette technologie répond initialement aux exigences de performance en matière de précision, de stabilité et d'uniformité de la formation du film, ouvrant ainsi la voie à de nouvelles matrices OLED qui concilient hautes performances, efficacité de fabrication et évolutivité à grande échelle.

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Mobilité supérieure à 50 cm²/V·s ;

ALD repousse les limites de la haute performance pour la technologie tout oxyde

Dans l'écosystème technologique actuel des écrans OLED, la technologie LTPS domine depuis longtemps le segment des hautes performances grâce à son excellente mobilité. Cependant, elle repose fortement sur le procédé de recuit laser excimère (ELA), complexe et coûteux. Les solutions d'oxyde traditionnelles excellent en termes d'uniformité sur de grandes surfaces, mais leur faible mobilité limite leur utilisation aux applications haut de gamme. L'introduction du procédé ALD offre une nouvelle solution à ce problème industriel de longue date.

L'ALD est une technologie de dépôt de couches minces par étapes. Contrairement au PVD (dépôt physique en phase vapeur) conventionnel, qui dépose les matériaux en une seule couche, l'ALD fait croître des couches minces atomiquement une à une, avec un contrôle ultra-précis à chaque étape. De ce fait, les couches minces produites par ALD présentent une épaisseur précise, une distribution uniforme et une stabilité exceptionnelle, constituant ainsi une base solide pour les transistors TFT à oxyde haute performance.

Pour les matrices d'affichage, la mobilité des porteurs est un paramètre essentiel des performances des transistors TFT, influençant directement la vitesse de réponse des pixels, l'efficacité de charge et les performances globales en haute résolution. Grâce au procédé ALD, Visionox a atteint une mobilité de grille unique supérieure à 50 cm²/V·s et une mobilité de double grille supérieure à 80 cm²/V·s pour les TFT tout oxyde, des performances de pointe. Les matrices tout oxyde possèdent ainsi une capacité de pilotage suffisante pour les applications haut de gamme de petite taille. Visionox poursuivra le développement de la production en série de cette technologie dans une prochaine phase.

Plus important encore, cette technologie entièrement à base d'oxydes offre une conduite haute performance sans processus ELA complexes, simplifiant fondamentalement les flux de production et améliorant l'efficacité de la production.

Rafraîchissement plus rapide, bordures plus fines, consommation d'énergie réduite : une mise à niveau des performances pour une expérience d'affichage améliorée

L'amélioration de la mobilité se traduit directement par des améliorations tangibles de l'expérience d'affichage de l'utilisateur.

Tout d'abord, des taux de rafraîchissement plus élevés. En pratique, chaque image nécessite le rafraîchissement des pixels dans un laps de temps extrêmement court. Une meilleure puissance de pilotage permet une réponse plus rapide des pixels, assurant ainsi une fluidité visuelle optimale même à des taux de rafraîchissement élevés.

Deuxièmement, des bordures plus fines et un rapport écran/corps plus élevé. Grâce à une puissance de pilotage accrue, les circuits de pixels peuvent être miniaturisés davantage tout en conservant une qualité d'affichage équivalente, occupant ainsi moins d'espace et permettant une conception structurelle plus compacte. Ceci optimise non seulement le design industriel des appareils finaux, mais prend également en charge les écrans à plus haute densité de pixels.

De plus, cette technologie permet un affichage stable même à faible fréquence de rafraîchissement. En mode veille et pour les images statiques nécessitant une longue durée d'affichage, les performances améliorées de l'appareil assurent une meilleure stabilité des pixels, réduisant ainsi le scintillement et les fluctuations de luminosité de l'écran, pour un rendu visuel stable et une consommation d'énergie réduite.

Premier écran compact mis sous tension — Élargissement des applications de la technologie tout oxyde

S'appuyant sur des avancées majeures en matière de performances, Visionox a réussi, pour la première fois, à mettre sous tension un écran entièrement à oxyde de petite taille. Auparavant, en raison de leur faible mobilité, les substrats entièrement à oxyde étaient principalement utilisés pour les écrans de taille moyenne. La mise sous tension réussie de cet écran de petite taille confirme que cette technologie est désormais prête pour les applications haut de gamme, redéfinissant ainsi les limites d'utilisation des substrats à oxyde.

La vérification confirme que la solution ALD répond aux spécifications de production en série pour les principaux indicateurs de procédé : fluctuation de l’épaisseur du film d’une plaquette à l’autre inférieure à 2 % et uniformité de l’épaisseur du film inférieure à 4 %. Ceci démontre une stabilité et une répétabilité exceptionnelles en production de masse, répondant pleinement aux normes de constance de la production de panneaux. Actuellement, la technologie a été validée sur la ligne de production 4.5G et est adaptable aux usines de fabrication de générations supérieures.

Fidèle à son esprit d'« ambition, d'audace et d'innovation », Visionox s'appuie sur près de 30 ans d'expérience en matière d'accumulation technologique et d'industrialisation pour lever les principaux obstacles au développement du secteur. Sa technologie ALD tout oxyde à haute mobilité permet d'améliorer les performances au sein d'un système d'oxyde unique, sans recourir à des combinaisons complexes de plusieurs matériaux. Offrant des performances élevées, une grande efficacité de traitement et une évolutivité à grande échelle, elle est appelée à devenir une voie technique essentielle pour le développement futur des OLED et à apporter une valeur ajoutée significative dans le cadre de la nouvelle ère de la concurrence sur le marché des technologies d'affichage.