No dia 5 de maio, horário local, durante o Fórum Acadêmico da SID, Chen Faxiang, especialista técnico da Visionox, proferiu um discurso de abertura a convite e anunciou que a Visionox assumiu a liderança no lançamento de uma solução de produção em massa para a tecnologia de deposição de camadas atômicas (ALD) de alta mobilidade em óxidos.

https://www.perfectdisplay.com/27-inch-dual-mode-display-4k-240hz-fhd-480hz-product/
https://www.perfectdisplay.com/27-fast-ips-qhd-gaming-monitor-product/
https://www.perfectdisplay.com/27-ips-360hz-fhd-gaming-monitor-product/
Ao adotar o processo ALD, a Visionox elevou a mobilidade de porta única de TFTs totalmente de óxido para além de 50 cm²/V·s e conseguiu alimentar com sucesso um painel totalmente de óxido de 6,39 polegadas. A verificação demonstra que a tecnologia atendeu inicialmente aos requisitos de desempenho em termos de precisão de formação de filme, estabilidade e uniformidade, criando um novo caminho para backplanes OLED que equilibra alto desempenho, eficiência de processo e escalabilidade em tamanho real.

https://www.perfectdisplay.com/27-fast-ips-fhd-240hz-gaming-monitor-product/
https://www.perfectdisplay.com/27-ips-qhd-280hz-gaming-monitor-2-product/
https://www.perfectdisplay.com/27-ips-qhd-280hz-gaming-monitor-product/
Mobilidade superior a 50 cm²/V·s;
A tecnologia ALD desbloqueia o potencial máximo de desempenho para a tecnologia de óxido puro.
No ecossistema atual de tecnologia de backplane OLED, o LTPS tem dominado o segmento de alto desempenho graças à sua mobilidade superior. No entanto, ele depende fortemente do processo de recozimento a laser de excímero (ELA), que envolve procedimentos complexos e custos elevados. As soluções tradicionais de óxido se destacam pela uniformidade em grandes áreas, mas são limitadas pela baixa mobilidade, restringindo seu uso a aplicações premium de ponta. A introdução do processo ALD oferece uma nova solução para esse desafio de longa data da indústria.
A deposição de camadas atômicas (ALD) é essencialmente uma tecnologia de deposição de filmes camada por camada. Ao contrário da deposição física de vapor (PVD) convencional, que deposita materiais em uma única camada, a ALD produz filmes finos camada por camada, com controle ultrafino em cada etapa. Como resultado, os filmes finos produzidos por ALD apresentam espessura precisa, distribuição uniforme e estabilidade excepcional, estabelecendo uma base sólida para TFTs de óxido de alto desempenho.
Para backplanes de displays, a mobilidade dos portadores é uma métrica fundamental da capacidade de acionamento de TFTs, afetando diretamente a velocidade de resposta dos pixels, a eficiência de carregamento e o desempenho em cenários de alta resolução. Ao adotar o processo ALD, a Visionox alcançou uma mobilidade de porta única superior a 50 cm²/V·s e uma mobilidade de porta dupla superior a 80 cm²/V·s para TFTs totalmente de óxido, atingindo níveis líderes mundiais. Isso significa que os backplanes totalmente de óxido agora possuem capacidade de acionamento suficiente para aplicações de ponta em dispositivos compactos. A Visionox continuará avançando na produção em massa dessa tecnologia na próxima fase.
Mais importante ainda, essa tecnologia totalmente de óxido proporciona condução de alto desempenho sem processos complexos de eletroerosão, simplificando fundamentalmente os fluxos de trabalho de fabricação e melhorando a eficiência da produção.
Taxa de atualização mais rápida, bordas mais estreitas, menor consumo de energia — aprimoramento de desempenho eleva a experiência de visualização.
A mobilidade aprimorada se traduz diretamente em melhorias tangíveis na experiência de visualização do usuário.
Em primeiro lugar, taxas de atualização mais altas. No uso real, cada quadro exige a atualização de pixels em um intervalo de tempo extremamente curto. Uma capacidade de processamento de dispositivos mais robusta permite uma resposta de pixels mais rápida, suportando facilmente imagens fluidas em altas taxas de atualização.
Em segundo lugar, molduras mais estreitas e maior relação tela-corpo. Com maior capacidade de processamento, os circuitos de pixels podem ser ainda mais miniaturizados, mantendo a mesma qualidade de imagem, ocupando menos espaço e permitindo um design estrutural mais compacto. Isso não só otimiza o design industrial dos dispositivos finais, como também suporta telas com maior densidade de pixels.
Além disso, a tecnologia permite uma exibição estável em baixas taxas de atualização. Para o modo de espera e cenários de imagem estática que exigem retenção prolongada de quadros, o desempenho aprimorado do dispositivo mantém melhor os estados dos pixels, reduzindo a cintilação da tela e a flutuação do brilho — proporcionando visuais estáveis e, ao mesmo tempo, reduzindo o consumo de energia.
Primeiro painel de pequeno porte ligado — expandindo os limites de aplicação da tecnologia de óxido.
Com base em avanços de desempenho, a Visionox conseguiu, pela primeira vez, ativar com sucesso um painel totalmente de óxido de tamanho reduzido. Anteriormente, devido à baixa mobilidade, os backplanes totalmente de óxido eram aplicados principalmente em telas de tamanho médio. A ativação bem-sucedida do painel de tamanho reduzido demonstra que essa tecnologia está agora pronta para aplicações premium de alta qualidade, redefinindo os limites de aplicação dos backplanes de óxido.
A verificação confirma que a solução ALD atende às especificações de produção em massa em indicadores-chave do processo: flutuação da espessura do filme entre wafers inferior a 2% e uniformidade da espessura do filme dentro de 4%. Isso demonstra excelente estabilidade e repetibilidade na fabricação em massa, atendendo plenamente aos padrões de consistência da produção de painéis. Atualmente, a tecnologia concluiu a verificação na linha de produção 4.5G e é escalável para fábricas de gerações superiores.
Mantendo o espírito de "aspiração, ousadia e capacidade de inovação", a Visionox aproveita quase 30 anos de experiência em acumulação tecnológica e industrialização para enfrentar os principais gargalos que restringem o desenvolvimento do setor. A tecnologia ALD de alta mobilidade, totalmente em óxido, permite melhorias de desempenho em um único sistema de óxido, sem depender de combinações complexas de múltiplos materiais. Com alto desempenho, alta eficiência de processo e escalabilidade em larga escala, ela está preparada para se tornar uma rota técnica fundamental para o futuro desenvolvimento de OLEDs e agregar ainda mais valor na nova rodada de competição em tecnologia de displays.
Data da publicação: 08/05/2026
