Vào ngày 5 tháng 5 theo giờ địa phương, tại Diễn đàn Học thuật SID, ông Chen Faxiang, chuyên gia kỹ thuật của Visionox, đã có bài phát biểu quan trọng được mời và thông báo rằng Visionox đã dẫn đầu trong việc triển khai giải pháp sản xuất hàng loạt cho công nghệ ALD (Atomic Layer Deposition) oxit toàn phần có độ linh động cao.

https://www.perfectdisplay.com/27-inch-dual-mode-display-4k-240hz-fhd-480hz-product/

https://www.perfectdisplay.com/27-fast-ips-qhd-gaming-monitor-product/

https://www.perfectdisplay.com/27-ips-360hz-fhd-gaming-monitor-product/

Bằng cách áp dụng quy trình ALD, Visionox đã đẩy độ linh động cổng đơn của TFT toàn oxit vượt quá 50 cm²/V·s và cấp nguồn thành công cho tấm nền toàn oxit 6,39 inch. Quá trình kiểm chứng cho thấy công nghệ này bước đầu đáp ứng được các yêu cầu về hiệu năng trong độ chính xác, độ ổn định và tính đồng nhất của quá trình tạo màng, mở ra một hướng đi mới cho các tấm nền OLED, cân bằng giữa hiệu năng cao, hiệu quả quy trình và khả năng mở rộng kích thước đầy đủ.

https://www.perfectdisplay.com/27-fast-ips-fhd-240hz-gaming-monitor-product/

https://www.perfectdisplay.com/27-ips-qhd-280hz-gaming-monitor-2-product/

https://www.perfectdisplay.com/27-ips-qhd-280hz-gaming-monitor-product/

Độ linh động vượt quá 50 cm²/V·s;

ALD mở khóa giới hạn hiệu năng cao cho công nghệ oxit toàn phần

Trong hệ sinh thái công nghệ tấm nền OLED hiện có, LTPS từ lâu đã thống trị phân khúc hiệu năng cao nhờ khả năng di chuyển điện tích vượt trội. Tuy nhiên, nó phụ thuộc rất nhiều vào quy trình ủ bằng laser excimer (ELA), vốn bao gồm các thủ tục phức tạp và chi phí cao. Các giải pháp oxit truyền thống có ưu điểm về độ đồng nhất trên diện tích lớn nhưng lại bị hạn chế bởi khả năng di chuyển điện tích thấp, khiến chúng chỉ được sử dụng trong các ứng dụng cao cấp. Sự ra đời của quy trình ALD mang đến một giải pháp mới cho thách thức lâu dài này của ngành công nghiệp.

Về bản chất, ALD là công nghệ lắng đọng màng từng lớp. Không giống như PVD (Phương pháp lắng đọng hơi vật lý) thông thường, phương pháp này lắng đọng vật liệu dưới dạng một lớp phủ lớn duy nhất, ALD tạo ra các màng mỏng từng lớp nguyên tử một với khả năng kiểm soát cực kỳ chính xác ở mỗi bước. Kết quả là, các màng mỏng được sản xuất bằng ALD có độ dày chính xác, phân bố đồng đều và độ ổn định vượt trội, tạo nền tảng vật liệu vững chắc cho các TFT oxit hiệu suất cao.

Đối với các tấm nền màn hình, độ linh động của chất mang là một chỉ số cốt lõi về khả năng điều khiển của TFT, ảnh hưởng trực tiếp đến tốc độ phản hồi pixel, hiệu suất sạc và hiệu năng điều khiển trong các kịch bản độ phân giải cao. Bằng cách áp dụng quy trình ALD, Visionox đã đạt được độ linh động cổng đơn trên 50 cm²/V·s và độ linh động cổng kép vượt quá 80 cm²/V·s đối với TFT toàn oxit, đạt mức dẫn đầu thế giới. Điều này có nghĩa là các tấm nền toàn oxit hiện nay sở hữu khả năng điều khiển đủ mạnh cho các ứng dụng kích thước nhỏ cao cấp. Visionox sẽ tiếp tục thúc đẩy sản xuất hàng loạt công nghệ này trong giai đoạn tiếp theo.

Quan trọng hơn, công nghệ hoàn toàn bằng oxit này mang lại khả năng lái xe hiệu suất cao mà không cần các quy trình ELA phức tạp, giúp đơn giản hóa đáng kể quy trình sản xuất và nâng cao hiệu quả sản xuất.

Tốc độ làm mới nhanh hơn, viền mỏng hơn, tiêu thụ điện năng thấp hơn — Nâng cấp hiệu năng giúp nâng tầm trải nghiệm hiển thị.

Khả năng di động được cải thiện này trực tiếp mang lại những nâng cấp rõ rệt về trải nghiệm hiển thị cho người dùng.

Thứ nhất, tốc độ làm mới cao hơn. Trong thực tế sử dụng, mỗi khung hình yêu cầu làm mới pixel trong một khoảng thời gian cực ngắn. Khả năng xử lý mạnh mẽ hơn của thiết bị cho phép phản hồi pixel nhanh hơn, dễ dàng hỗ trợ hình ảnh mượt mà ở tốc độ làm mới cao.

Thứ hai, viền màn hình hẹp hơn và tỷ lệ màn hình trên thân máy cao hơn. Với khả năng điều khiển mạnh mẽ hơn, các mạch điểm ảnh có thể được thu nhỏ hơn nữa trong khi vẫn duy trì chất lượng hiển thị tương đương, chiếm ít không gian hơn và cho phép thiết kế cấu trúc nhỏ gọn hơn. Điều này không chỉ tối ưu hóa thiết kế công nghiệp của các thiết bị đầu cuối mà còn hỗ trợ màn hình có mật độ điểm ảnh cao hơn.

Ngoài ra, công nghệ này cho phép hiển thị ổn định ở tốc độ làm mới thấp. Đối với chế độ chờ và các trường hợp hình ảnh tĩnh yêu cầu giữ khung hình lâu dài, hiệu năng thiết bị được nâng cấp giúp duy trì trạng thái điểm ảnh tốt hơn, giảm hiện tượng nhấp nháy màn hình và dao động độ sáng — mang lại hình ảnh ổn định đồng thời giảm tiêu thụ điện năng.

Tấm pin kích thước nhỏ đầu tiên được cấp điện — Mở rộng phạm vi ứng dụng của công nghệ oxit toàn phần

Dựa trên những đột phá về hiệu năng, Visionox đã lần đầu tiên kích hoạt thành công một tấm nền oxit toàn phần kích thước nhỏ. Trước đây, do hạn chế về độ linh động thấp, các tấm nền oxit toàn phần chủ yếu được ứng dụng cho màn hình kích thước trung bình. Việc kích hoạt thành công tấm nền kích thước nhỏ đánh dấu rằng hướng đi công nghệ này đã sẵn sàng cho các ứng dụng cao cấp, định nghĩa lại ranh giới ứng dụng của các tấm nền oxit.

Quá trình kiểm chứng xác nhận giải pháp ALD đã đáp ứng các thông số kỹ thuật sản xuất hàng loạt về các chỉ số quy trình chính: độ dao động độ dày màng giữa các tấm wafer dưới 2% và độ đồng nhất độ dày màng trong vòng 4%. Điều này chứng tỏ tính ổn định và khả năng lặp lại vượt trội trong sản xuất hàng loạt, đáp ứng đầy đủ các tiêu chuẩn về tính nhất quán trong sản xuất tấm nền. Hiện tại, công nghệ này đã hoàn tất quá trình kiểm chứng trên dây chuyền sản xuất 4.5G và có thể mở rộng sang các nhà máy thế hệ cao hơn.

Với tinh thần "khát vọng, táo bạo và khả năng đổi mới", Visionox tận dụng gần 30 năm kinh nghiệm tích lũy công nghệ và công nghiệp hóa để giải quyết những nút thắt cốt lõi cản trở sự phát triển của ngành. Công nghệ ALD toàn oxit có độ linh động cao giúp nâng cao hiệu suất trong một hệ thống oxit duy nhất, mà không cần dựa vào sự kết hợp phức tạp của nhiều vật liệu. Với hiệu suất cao, hiệu quả quy trình cao và khả năng mở rộng quy mô đầy đủ, công nghệ này hứa hẹn sẽ trở thành một hướng đi công nghệ quan trọng cho sự phát triển OLED trong tương lai và mang lại giá trị lớn hơn trong vòng cạnh tranh công nghệ màn hình mới.